UV照射裝置HMW-615N-4
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- UV照射裝置HMW-615N-4
- ORC
- HMW-615N-4
- 日本
- 30個(gè)工作日
產(chǎn)品均為日本進(jìn)口，貨期30個(gè)工作日，特殊除外
產(chǎn)品詳細(xì)介紹
| 半導(dǎo)體製造プロセス、液晶基板製造プロセス等微細(xì)なパターンを形成する工程において、基板の表面に殘る有機(jī)物に、UVを照射して有機(jī)物汚染を非接觸で除去する裝置です?；濂ぅ昆岍`ジを與えずに表面の洗浄と改質(zhì)が出來ます。 |
 HMW-615N |
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 VUM-3073F |
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| ◆ 特 徴 |
| 1． | 基板にダメージが少なく、有機(jī)物を分解する能力の高い獨(dú)自の低圧ＵＶランプを搭載しています。 |
| 2． | 基板を揺動(dòng)するモードを利用すると、基板にUV光量が均等に照射されます。 |
| 3． | 基板はあまり加熱されません。 |
| 4． | オゾンをカットする照射方式も、窒素ガスをパージする照射方式も適用できます。 |
| ◆ 仕 様 |
| 型式 | HMW-615N-3 | HMW-615N-4 | VUM-3073F |
| 使用ランプ | 低圧ＵＶランプ VUV-080/A-3.6U?5燈 |
低圧ＵＶランプ VUV-100/A-5.3U?7燈 |
低圧ＵＶランプ VUV-040/A-2.2U?4燈 |
| 照射距離 | 25mm | 25mm | 15mm |
| 照射面積 | 300W X 300D | 400W X 400D | 200W X 200D |
| 照射時(shí)間 | 0～10min(可変) | 0～99min59sec(可変) | |
| 排気????除去 | オゾン分解用フィルター使用 | ||
| 外形寸法 | 750W X 700DX 1,435H 180kg | 580W X 500DX 240H 25kg | |