UV照射裝置VUS-3100
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- UV照射裝置VUS-3100
- ORC
- VUS-3100
- 日本
- 30個(gè)工作日
產(chǎn)品均為日本,貨期30個(gè)工作日,特殊除外
產(chǎn)品詳細(xì)介紹
特殊無(wú)水銀UVランプより放射されるU(xiǎn)V光(真空紫外光)によって、非接觸で殘存有機(jī)物を除去し、「表面改質(zhì)」を行うシリーズです。 |
エキシマ照射裝置 VUS-3100 |
エキシマ照射裝置 VUS-3100-R |
室內(nèi)脫臭機(jī)能付き 器具除染用洗浄器 MCU-6030 |
ハンディエキシマ照射裝置 VUE-3020-172 |
◆ 特 徴 |
? | 従來(lái)の表面改質(zhì)裝置に対し、波長(zhǎng)の短い真空紫外光を照射する(フォトンエネルギーが高い)ため、様々な化學(xué)結(jié)合を切斷?分解する事ができます。また、短時(shí)間で同等の改質(zhì)効果が得られます。 |
? | 瞬時(shí)點(diǎn)燈が可能(安定時(shí)間が不要)ですので、処理時(shí)間の短縮と共にランプ交換周期の低減効果もあります。 |
◆ メカニズム |
? | 真空紫外線によりオゾン(O3)?活性酸素(O※)が生成されます。 |
? | オゾンや活性酸素は非常に酸化力が強(qiáng)く、有機(jī)系の汚れなどは、二酸化炭素?水などに分解可能です。 |
◆ 表面改質(zhì)(濡れ性の変化) |
數(shù)分の照射で大幅に表面の濡れ性が改質(zhì)されます。
※すべての材質(zhì)に対して効果を保証するものではありません。使用環(huán)境?材質(zhì)?表面狀態(tài)等によって効果は異なります。 |