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半導(dǎo)體用晶元裝置PPS-8200

產(chǎn)品大圖
  • 半導(dǎo)體用晶元裝置PPS-8200
  • ORC
  • PPS-8200
  • 日本
  • 30個工作日

  • 產(chǎn)品均為日本進(jìn)口，貨期30個工作日，特殊除外

產(chǎn)品詳細(xì)介紹

 

PPS-8200/8300 6,8,12inchウェハ用モデル

用途
PPS-8200/8300
■ 2.5D,3Dパッケージ

  特徴

  ■　可変レンズNA機(jī)構(gòu)と等倍Dyson光學(xué)系
■　52x33mmの大面積露光フィールド
■　最大8フィールドの効率的なレチクルデザイン
■　周囲のケミカルとレジストアウトガスから光學(xué)系をプロテクト
■　薄ウェハ?TAIKOウェハ?反りウェハなどに柔軟に対応する搬送系

  仕様

  ■ 露光波長

  オプション

  ■ ウェハ裏面マークでのアライメント機(jī)能
■ ウェハ周辺露光/非露光機(jī)能