【新品上市】曝光機(jī)EXP-2900
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| EXP-2900?感材に合わせて平行光/散亂光の光源を選択できる両面同時(shí)露光モデル |
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使用用途により、光源を選択ください。 ●パターン用：5kWショートアークランプ平行光（精度重視） ●液狀レジスト用：7kW散亂光（タクト重視） |
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| ? | 露光枠の剛性向上や、溫濕度コントローラー搭載などにより、従來(lái)機(jī)（EXP-2010B）と比べ、ワークとマスクの位置決め精度が大幅に向上しました。 |
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| ? | 段取り時(shí)間短縮のために、獨(dú)自の密著方式によるスペーサレス露光、焼?wèn)槬楗工屋X量化、段取り情報(bào)のレシピ化など、最新の機(jī)構(gòu)を採(cǎi)用しています。 |
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| ? | カメラ移動(dòng)機(jī)構(gòu)（反射光照明）や、ダブルラインレイアウト対応（平行光の場(chǎng)合）などのオプションがあります。 |
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| ? | 標(biāo)準(zhǔn)搭載のHEPAフィルターとオプションの自動(dòng)マスク＆ステージクリーニング機(jī)構(gòu)により、異物による製品不良を低減します。 |