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【新品上市】UV照射裝置VUM-3500

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低圧UVランプから放射する254nmのUVを利用し、プラズマ処理や、熱アニール処理工程などで、蓄積された電荷を効率よく除去し、素子の特性を改善します?!√匦预胃纳皮摔瑜暄u品歩留まりの向上、信頼性の向上が期待できます。

◆ 特 徴

1. フラッシュメモリやその他の不揮発性メモリ、イメージセンサなどのチャージ除去やデータ消去に有効です。
2. 半導(dǎo)體デバイスのトランジスタ特性の改善と安定化にも有効です。
3. チャージイレースに最適なUV波長(zhǎng)を、効率よく照射します。
4. 幅広い角度からUVを照射することで、効率よくチャージを除去します。
5. 対象ウェーハサイズは、12インチ(標(biāo)準(zhǔn))、11インチ(オプション)となります。
6. 処理中のウェーハ溫度は100℃程度です。低溫で処理可能なため、ダメージを與えません。
7. 裝置は、裝置本體、ランプ電源ユニット、制御ユニットから構(gòu)成されています。

◆ 仕 様

型式 VUM-3500 VUS-3300
処理ウエーハ
サイズ
12インチ
8インチ OP OP
同時(shí)処理枚數(shù) 15枚 3枚
スループット ※1 約48WPH 約24WPH
カセット形態(tài) FOUP FOUP
ウェーハ搬送 自動(dòng)搬送 自動(dòng)搬送
ランプ燈數(shù) 20本 4本
初期照度 45mW/cm2 45mW/cm2
照度測(cè)定 自動(dòng)測(cè)定 自動(dòng)測(cè)定
裝置サイズ 1140(W)×
2100(D)×
1850(H)
1360(W)×
2210(D)×
2700((H)